手套箱蒸发镀膜系统WD-EDI400-GB
简 述:
威德 WD‑EDI400‑GB 手套箱蒸发镀膜系统面向钙钛矿、OLED、锂电池、量子点LED、OPV 等光电器件研发;集成电阻/有机束源炉蒸发,可制备纳米金属、氧化物、氮化物、有机薄膜;与手套箱无缝对接,无水无氧连续镀膜,适配高校及企业研发。
产品型号:
- WD-EDI400-GB
威德 WD‑EDI400‑GB 手套箱蒸发镀膜系统面向钙钛矿、OLED、锂电池、量子点LED、OPV 等光电器件研发;集成电阻/有机束源炉蒸发,可制备纳米金属、氧化物、氮化物、有机薄膜;与手套箱无缝对接,无水无氧连续镀膜,适配高校及企业研发。
产品特点
1.手套箱无缝互联:前滑动开门结构与手轮压紧设计,杜绝空气渗漏,实现无水无氧环境下蒸镀全流程连续操作。
1.手套箱无缝互联:前滑动开门结构与手轮压紧设计,杜绝空气渗漏,实现无水无氧环境下蒸镀全流程连续操作。
2.双模式蒸发源配置:金属源兼容蒸发舟、螺旋丝;有机源采用源炉结构PID控温精度±1℃,满足金属电极及C60、NPB等有机材料精确蒸镀。
3.样品价灵活可调:0‑30RPM 旋转,源基距连续可调,搭载100×100mm 掩膜样品盘,600℃红外加热,多层薄膜原位沉积。
4.超高真空环境:不锈钢腔体内壁电抛光,1200L/s分子泵,极限真空优于6×10E⁻⁵Pa,有效保证薄膜纯度与界面质量。
5.高精度膜厚监控:石英晶振膜厚仪实时监测,镀膜均匀性优于±4%,重复性优于±5%,满足纳米级薄膜精准制备需求。
6.全自动控制与多重保护:触摸屏+PLC一键式操作,硬件/软件双重互锁及水流报警,保障设备与人员安全。
产品参数
产品参数
真空腔体:304L不锈钢方形真空室400X400X450mm,内电解抛光;前后开门,前门对接手套箱,配DN100观察窗及不锈钢多片内村。
真空性能:极限真空≥6X10E⁻⁵Pa(手套箱环境,抽气≥12h)大气抽至5X10E⁻⁴Pa<25min,整体漏率优于5X10E⁻¹Pa·m2/s。
抽气系统:主泵KYKY1200L/s分子机械泵前级:配置气配置气动高真空闸阀、粗抽阀、前级阀、放气阀。
蒸发系统(数量可依工艺调整):4组蒸发源;2套金属源、2套有机源;带气动挡板,有机源PID控温1°C,配数字直流蒸发电源。
样品架系统:样品最大100X100mm(掩膜版);0-30RPM、源基距250-320mm可调,600°C红外加热,配气动挡板。
膜厚控制:配备石英晶振膜厚仪及水冷探头
镀膜性能:片内均匀性优于士4%,镀膜重复性优于士5%
控制系统:软硬件双重互锁,带水流检测报警触摸屏+PLC控制,支持一键抽真空、一键关机;


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