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显影方法解析及常见显影方式
用化学显影液溶解光刻胶经过曝光后可溶解区域的过程称为显影，其主要目的是将光刻板上的图形用光刻胶精确地复制到晶圆片上，即溶解掉不需要的光刻胶，从而在光刻胶膜上获得所需要的图形。 -
显影工艺的技术指标及影响因素
显影工艺的几个关键技术指标a.显影程度不够会造成不完全显影，导致底部有光刻胶残留、线宽偏小或线缝底部内凹；过显影会导致线缝偏大，过显影液会过多地从图形区边缘或表面上去除光刻胶。b.侧壁角：湿法显影具有各向同性，显影液在垂直方向显影的同事，周围的光刻胶同时也会被溶解，这种现象称为湿法显影的底切现象。显影后光刻胶与金属层的侧壁角为锐角。侧壁角越小会导致边缘光刻胶过薄，在蚀刻的过程中无法起到保护的作用。
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