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等离子刻蚀处理材料的原理及应用
Plasma 就是等离子（在台湾称为电浆），是由气体电离后产生的正负带电离子以及分子，原子和原子团组成。只有在强电场作用下雪崩电离发生时，plasma才会产生。此外，气体从常态到等离子的转变，也是从绝缘体到半导体的转变。在我们的现实生活中也存在plasma，比图说荧光灯，闪电，太阳都是等离子。 -
等离子清洗的机理分类
空间内部的等离子体与材料表面发生反应是等离子体清洗的主要机理，其中反应大致可分为两种：一种是气体的自由基活性粒子与材料表面污染物发生化学反应；另一种是电离产生的正离子和电子轰击材料表面发生使污料表面脱落的物理反应，针对不同行业的清洗产品可选择相对应的工艺气体进行等离子表面清洗。 -
等离子清洗的技术分类
经常使用或被研究的两种等离子体清洗技术可以分为真空等离子体清洗技术以及大气压等离子体清洗技术。 -
等离子清洗机主要应用
适用于材料科学、光学、光电子学、生命科学、电子学、生物医学、高分子科学、半导体、微观流体学等领域. 1. 电子行业：用于清洗印刷电路板（PCB）、集成电路（IC）等电子元件的表面，以提高元件的可靠性和性能。 2. 半导体行业：用于清洗硅片表面，去除表面的杂质和污染物，提高半导体器件的质量。 3. 光电行业：用于清洗光学元件（如镜片、滤光片等）的表面，以提高光学元件的透光率和清晰度。 4. 医疗器械行业：用于清洗医疗器械的表面，确保医疗器械的卫生和安全性。 5. 航空航天行业：用于清洗航空航天器材的表面，去除表面的污染物和润滑剂，确保航空航天器材的性能和可靠性。 -
等离子清洗技术原理及特点
等离子体是由带正电的正粒子、负粒子（其中包括正离子、负离子、电子、 自由基和各种活性基团等）组成的集合体,其中正电菏和负电菏电量相等故称等离子体,是除固态、液态、气态之外物质存在的第四态－等离子态。 -
真空等离子清洗机如何选型
1.确定实验样品的大小和形态 （1）根据实验样品的大小来选择合适的仪器舱体尺寸 （2）根据实验样品的形态来选择是否需要转毂装置：如果实验样品为粉末、粉 体、微小颗粒，那么就需要选择腔体内置转毂装置的设备. （3）舱体分为：不锈钢材质（CCP 激发辉光）和石英材质（ICP 激发辉光）， 同时不锈钢材质的舱体又分圆柱形和方形。 （4）如果实验气体为四氟化碳一类容易产生颗粒沉积的气体，那么建议使用石英材质的腔体设备或者是内置质量流量计（MFC）的设备.
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