蒸发镀膜系统WD-EDI300
简 述：
威德 WD‑EDI300 蒸发镀膜系统专为科研院所及高端研发设计的多功能高真空蒸镀平台。系统集成了高真空获得系统、多路独立蒸发电源、精密膜厚监控及内循环水冷于一体，结构紧凑，性能稳定，可满足金属薄膜、有机半导体及介电材料等多种薄膜的制备需求。
产品型号：
- WD-EDI300
威德 WD‑EDI300 蒸发镀膜系统专为科研院所及高端研发设计的多功能高真空蒸镀平台。系统集成了高真空获得系统、多路独立蒸发电源、精密膜厚监控及内循环水冷于一体，结构紧凑，性能稳定，可满足金属薄膜、有机半导体及介电材料等多种薄膜的制备需求。
产品特点
产品特点
1.高真空抽速快：极限真空优于 6×10⁻⁵Pa，从大气抽至6×10⁻⁴Pa＜40分钟，为高纯度薄膜制备提供洁净环境。
2.大尺寸兼容，样品灵活：最大镀膜直径100×100mm，配备抽拉式旋转样品台及专用铜基板台，适合多种基片研究。
3.多源蒸发，独立智控：配备4对金属/有机蒸发源，2‑4套数字蒸发电源，支持多层膜、合金膜共蒸发。
4.操作便捷，人性化设计：正开门结构，换丝、装样、取件轻松自如，降低操作难度，提升实验效率。
5.核心配置：搭载1200L/S分子泵+高抽速旋片泵，配合进口石英晶振膜厚仪及水冷探头，镀层厚度监测精准可靠。
6.集成冷却，工况稳定：内置一体式冷却水循环系统，确保蒸发源及真空腔体长期工作不过热，保障设备稳定性与重复性。
产品参数
真空室尺寸：304不锈钢腔室;300X300X650mm
产品参数
真空室尺寸：304不锈钢腔室;300X300X650mm
最大可镀工件：100X100mm
样品台：抽拉式，可旋转，手动升降，水冷(可选)
极限真空度：优于6X10⁻⁵Pa
抽气时间：<40min(至6X10⁻⁴Pa)
蒸发源：可选2一4组水冷蒸发电极或有机蒸发源
蒸发电源：2一4套数字式直流蒸发电源或独立有机蒸发电源
开门方式：正面开门
真空系统：机械泵(8L/S)+分子泵(1200L/S)
水冷机：>1KW，不锈钢水箱
膜厚仪：INFICON SQC310(进口，含水冷探头)
膜厚控制方式：在线测量+自动驱动蒸发电源(自动镀膜)
控制系统：PLC+触摸屏，一键抽真空，安全互锁
供电：三相380V，6KW
设备尺寸：W680*D950*H1800
400-880-3713
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