真空热蒸发镀膜仪 WD-EDI280
简 述：
威德 WD-EDI280 真空热蒸发镀膜仪适用于金属、有机薄膜等科研及教学场景，紧凑高效，操作便捷，支持100mm旋转工件。配置2对电阻蒸发源（2kW）、石英膜厚仪实时监测，触屏一键操作。4L机械泵+300L分子泵系统稳定高效。
产品型号：
- WD-EDI280
威德 WD-EDI280 真空热蒸发镀膜仪适用于金属、有机薄膜等科研及教学场景，紧凑高效，操作便捷，支持100mm旋转工件。配置2对电阻蒸发源（2kW）、石英膜厚仪实时监测，触屏一键操作。4L机械泵+300L分子泵系统稳定高效。
产品特点
1.灵活全面的配置方案：可根据实验精度与预算灵活选择，覆盖教学、基础研发、精密科研及特种薄膜制备等全场景需求。
1.灵活全面的配置方案：可根据实验精度与预算灵活选择，覆盖教学、基础研发、精密科研及特种薄膜制备等全场景需求。
2.优异的真空性能与效率：机械泵与300L分子泵组合系统可获得优于 6×10⁻⁵Pa的极限高真空环境，有效减少薄膜氧化与杂质掺入。
3.智能化与易用性设计：触摸屏集成控制，支持一键抽真空、关机；正面开门设计，方便换丝、装料及设备维护，操作简便，降低使用门槛。
4.精确的工艺控制能力：可配备INFICON石英晶振膜厚仪，实时监控沉积速率与薄膜厚度，确保工艺的可重复性与数据精确性。
5.强大的样品处理与兼容性模块化架构，支持模块选配升级，适配科研迭代需求。
6.模块化设计，未来可拓展：样品台可旋转升降，兼容Ø100mm工件；可选加热台，优化高端薄膜成膜品质。
3.智能化与易用性设计：触摸屏集成控制，支持一键抽真空、关机；正面开门设计，方便换丝、装料及设备维护，操作简便，降低使用门槛。
4.精确的工艺控制能力：可配备INFICON石英晶振膜厚仪，实时监控沉积速率与薄膜厚度，确保工艺的可重复性与数据精确性。
5.强大的样品处理与兼容性模块化架构，支持模块选配升级，适配科研迭代需求。
6.模块化设计，未来可拓展：样品台可旋转升降，兼容Ø100mm工件；可选加热台，优化高端薄膜成膜品质。
一、设备结构介绍：
该设备由真空室、真空机组和电气系统组成
1. 真空室
圆形形腔体，侧部抽气，正面开门。不锈钢材质，配φ100观察窗（含防污挡板）、预抽接口、充气接口；内部有底板、蒸发源（两组蒸发源相互隔离避免交叉污染），蒸发源上配有手气动挡板装置等；
2. 真空系统及进气
采用300L分子泵+4L旋片式机械泵。采用真空波纹管连接，配有复合式数显真空测量仪表；
3. 电气系统
系统采用触摸屏控制，抽真空可以一键式操作，电气系统包括真空机组控制、蒸发与烘烤控制、真空测量控制等部分组成。有安全互锁机构，有效防止误操作发生。
二、主要技术参数：
二、主要技术参数：
腔体尺寸(W*D*H)：280*280*400mm
真空泵配置：4L机械泵+300L分子泵
极限真空度：优于 6X10⁻⁵Pa
抽气时间：<30min(至6X10⁻⁴Pa)
最大可镀工件：4寸
样品台功能：旋转、升降
蒸发源个数：2-3组蒸发源(金属/有机)
蒸发电源：数字式直流电源或独立有机蒸发电源(PID控温，精度士1°C)
膜厚仪：石英晶振膜厚仪(INFICONSQC310)+水冷探头1-2套
控制系统：彩色触摸屏控制;抽真空及关机一键操作
设备尺寸(W*D*H)：550*550*890mm
400-880-3713
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