WD-ISC50桌面式小型离子溅射仪
简 述：
WD-ISC50桌面式小型离子溅射仪是采用磁控直流溅射原理设计而成的离子溅射镀膜设备。具有最简单、可靠、经济的镀膜技术，对比于常规二极溅射具有效率高，溅射靶材种类多等优点。
产品型号：
- WD-ISC50
一、设备概况
Wisdom威德® WD-ISC50桌面式小型离子溅射仪是采用磁控直流溅射原理设计而成的离子溅射镀膜设备。磁控直流溅射是一种最简单、可靠、经济的镀膜技术，对比于常规二极溅射具有效率高，溅射靶材种类多等优点。Wisdom威德®WD-ISC50桌面式小型离子溅射仪/喷金仪采用触摸屏全自动一键式启动！
二、设备主要参数
1、靶材：各类金属靶材，φ50.8mm厚度0.1mm（选配产品，非标配）
2、真空室：直径150mm，高度140mm
3、溅射面积：50mm；
4、真空计：数字式真空计；
5、数字式电流显示：最大150mA；
6、定时器：0~99秒可设置；
7、质量流量计：配6mm接管；
8、机械泵：2L/S；
本系列喷金仪采用全闭环真空设计，配备全量程皮拉尼真空计等多个传感器，可实时监控运行状态，确保仪器安全稳定运行。
同时搭载高性能旋叶真空泵，能快速获得＜1Pa 的真空环境；高精度溅射电源采用恒流控制技术，使镀膜更纯净、膜厚更精准，实验结果重复性更佳。
Wisdom 威德 ®WD-ISC50 桌面式小型离子溅射仪 / 喷金仪的核心组成包括：真空腔体、上盖组件（含固定于上盖的阴极靶与放气阀）、样品台、真空泵及阀门、真空计，以及其他电气组件。
设备搭载触摸屏与 PLC 控制系统，工作气体可通过微调阀精准通入真空腔体，操作便捷高效。同时，其结构设计紧凑，能有效节省空间。
该设备特别适用于电镜实验室的 SEM 样品制备，以及新材料研究中的电极制备场景
三、原理详解及特点
Wisdom威德® WD-ISC50桌面式小型离子溅射仪 / 喷金仪，适用于常规 SEM 与 TEM 分析场景。其工作原理主要依赖于辉光放电现象。在一个封闭的腔室内，放置阳极靶材并充入气体，维持一定的真空度。在阳极和阴极之间加载高压，导致辉光放电现象的发生。电离的气体离子会轰击并侵蚀阳极靶材，靶材原子随后向四周扩散并在样品上沉积，最终在样品表面形成一层均匀的镀层。这个镀层的作用是抑制荷电、减小热损伤、提高二次电子产率，从而改善扫描电镜的观察效果。设备采用全自动系统设计，操作极为简便。在秉承人体工学设计理念的基础上，其紧凑的外观与更小的桌面占地面积，能为实验室显著节省空间。
Wisdom威德®桌面式小型离子溅射仪/喷金仪特点
◆设计美观，操作简单，界面友好、一键镀膜
◆采用ARM架构，全自动控制，控制精度高，操作简单
◆低电压，稳定真空环境，可溅射多种常用金属金、铂、钯、银等
◆溅射颗粒可达纳米级别，溅射颗粒＜5nm制备薄膜致密，适合高分辨SEM使用
◆ 采用磁控溅射技术，利用平面磁场减少温度的变化，适用于温度敏感样品
◆ 配有多个传感器实时监控运行状态，保证仪器使用安
◆ 长期运行，稳定可靠，无需特殊维护
◆ 具备开关机数据存储记忆，修复长期应用偏差
◆ 仪器可全自动控制，更方便用户实现各种自动化控制操作
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