等离子清洗机WD-PLM280
简 述：
威德 WD-PLM280 是一款桌面型真空等离子表面处理设备，采用280×280×200mm方形腔体，配备0~300W数显可调射频电源与双级旋片真空泵，极限真空度达9×10-1Pa。依托触摸屏全自动控制与质量流量控制器（MFC），可一键完成抽真空、充气、等离子处理及排空全流程，适用于等离子清洗、表面活化、亲疏水改性及刻蚀等工艺，操作简便、重复性优异。。
产品型号：
- WD-PLM280
威德 WD-PLM280 是一款桌面型真空等离子表面处理设备，采用280×280×200mm方形腔体，配备0~300W数显可调射频电源与双级旋片真空泵，极限真空度达9×10-1Pa。依托触摸屏全自动控制与质量流量控制器（MFC），可一键完成抽真空、充气、等离子处理及排空全流程，适用于等离子清洗、表面活化、亲疏水改性及刻蚀等工艺，操作简便、重复性优异。
产品特点
1. 方形腔体，空间适配灵活:腔体280×280×200mm，方形高利用率，适配多类工件。
2. 0~300W数显射频电源，功率连续可调、实时显示，响应快。
3. 极限真空度稳定可靠:极限真空9×10-1Pa，标配双级旋片泵，快速建立稳定本底真空，保障处理质量。
4. 质量流量控制器精准供气:MFC替代浮子流量计，流量精准稳定；配排空阀，精确进气与快速排气。
5. 全自动触控，一键工艺循环:可预设抽真空/充气/等离子处理/排空全流程参数，一键启动自动运行，重复性高。
6. 真空系统配置完整实用:标配2L/s真空泵及电磁角阀、充气阀、真空波纹管、数字真空计等全套组件，开箱即用。
1. 方形腔体，空间适配灵活:腔体280×280×200mm，方形高利用率，适配多类工件。
2. 0~300W数显射频电源，功率连续可调、实时显示，响应快。
3. 极限真空度稳定可靠:极限真空9×10-1Pa，标配双级旋片泵，快速建立稳定本底真空，保障处理质量。
4. 质量流量控制器精准供气:MFC替代浮子流量计，流量精准稳定；配排空阀，精确进气与快速排气。
5. 全自动触控，一键工艺循环:可预设抽真空/充气/等离子处理/排空全流程参数，一键启动自动运行，重复性高。
6. 真空系统配置完整实用:标配2L/s真空泵及电磁角阀、充气阀、真空波纹管、数字真空计等全套组件，开箱即用。
产品参数
设备型号：WD-PLM280
设备型号：WD-PLM280
腔体结构: 方形真空腔体
腔体内部尺寸: 280mm×280mm×200mm（高）
极限真空度: 9×10-1Pa（配套双级旋片真空泵）
真空泵: 配套真空泵一台，抽气速度2L/s
真空系统组件: 真空专用电磁角阀、充气阀、不锈钢真空波纹管、高精度数字式真空计、专用规管
射频电源: 功率0~300W，数显
充气系统: 质量流量控制器一台+排空阀一套
控制系统: 触摸屏全自动控制
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