桌面小型等离子清洗机 WD-PLM500

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简　　述：

等离子体清洗机由真空腔体及等离子电源、抽真空系统、充气系统、控制系统等部分组成。工作基本原理是利用真空泵将工作室进行抽真空达到0.02-0.03mbar 的真空度，再在等离子电源作用下，将气体进行电离，形成等离子体（物质第四态）。

产品型号：

保修/维修/计量校准

一、概述

威德WD-PLM500系列等离子清洗机是一款高端模块化表面处理设备，支持腔体、等离子体源、电源及真空泵等核心部件的灵活选配，为用户提供高度定制化的工艺解决方案。该设备可适配不同材料特性与处理要求，广泛应用于从常规清洗到先进材料研究与精密制造的各类表面处理场景。

设备配备高纯石英或金属腔体（Φ190×200mm），支持ICP与CCP两种等离子体激发模式，并可选配13.56MHz射频或40KHz中频电源，功率调节范围0~150W。系统集成多路气控与高精度真空系统，极限真空度达9×10⁻¹Pa，配合触摸屏全自动控制，实现稳定、精准的工艺操作与过程监控。

威德WD-PLM500系列以其可扩展的模块设计、可靠的工艺性能与友好的操作界面，为科研与工业用户提供了高效、灵活表面处理平台。

二、设备应用范围

广泛应用于纳米材料学，半导体，微电子，光学，电子学，医药学，环境学，微流控生物学，LED，石墨烯等不同领域。

主要用于以下实验：表面清洁、表面活化、键合、去胶、金属还原、简单刻蚀、器械消毒、去除表面有机物、疏水实验、镀膜。

三、设备主要参数

威德仪器等离子清洗机系列（如需了解详细技术规格，请联系我们的销售团队）
腔体尺寸	Φ190×200mm深,高纯石英腔体或金属腔体可选
等离子体激发方式	ICP、CCP模式可选
极限真空度	9*10-1Pa(配套双级旋片真空泵，可选涡旋干泵)
电源	功率0～150 W，数显（13.56MHz射频、40KHz中频可选）
充气系统	一路质量流量控制器及排空阀一套
真空系统	配真空泵一台，抽气速度≥1升/秒，配备真空专用电磁角阀、充气阀、不锈钢真空波纹管、高精度数字式真空计、规管
控制系统	采用触摸屏全自动控制