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原位荧光‑吸收闪蒸成膜系统 全新上市

发布人: 发布时间:2026-09-20

原位荧光‑吸收闪蒸成膜系统,打破传统黑箱式镀膜局限,实现薄膜制备全过程原位表征。设备可同步采集吸收与 PL 荧光信号,实时追踪 带隙变化、结晶与缺陷演化;真空成膜期间不间断高速采集光谱,通过时序同步软件关联工艺与物相数据。光学套件模块化选配,预留光 学视窗,捕获瞬态中间过程,助力光电薄膜机理研究与工艺优化

闪蒸的真空动态过程不中断光学采集,每秒钟多条 光谱,把 “黑箱式成膜” 变成可观测的动态过程, 把工艺参数和光学 / 相态直接关联。
原位吸收:透射模式实时获取带隙 演变、中间相、前驱体 消耗、相转变信息
原位 PL 荧光:激光激发 实时捕捉激子发光、缺陷 态演化、结晶动力学、相 生成时序
 


仪器名称:

1)原位PL吸收测试系统

2) 品牌:威德仪器

3)仪器型号:WD-VFE10C-IFA

4)设备模组:

1. 光谱仪

2. 荧光光谱检测套件

3. 吸收光谱检测套件

4. 卤素灯光源

5. 定制立式开放光学支架

5)系统运行方式:采用立式十字滑台,横梁支持上下调节,荧光探头支持横向位置调节和上下位置手动微调,支持斜入射和正入射调节(双档位)

6)系统参数

1. Sino 高速工业光谱仪,数量1,兼顾荧光以及吸收检测,最大采样频率不小于

10Hz,即~100ms一张光谱。探测范围覆盖325-1100nm,光谱分辨率优于10nm,

2. 荧光光谱检测套件,405nm激发,激发功率0-Max可调,工作距离(即探头至样品

表面距离)不低于10cm,样品表面光斑尺寸不大于0.3cm*0.3cm,内置滤光片组,

包括带通、二向色及长波通滤光片,荧光检测波段覆盖455-1000nm,可有效实现对

激发光的过滤。

3.吸收光谱检测套件,通过光纤接入卤素光源,工作距离(即探头至样品表面距离)不

低于 10cm,样品表面光斑尺寸不大于0.3cm*0.3cm.

4. 卤素光源光谱波段覆盖 380~1700nm,SMA905 光纤接口。

5.定制立式开放式光学支架。

6.含对应软件,软件支持测试时长30分钟的

数据逐张存储,单独导入分析。不含电脑。
7.针对闪蒸吸收,额外增加2根光纤,含2个准直镜

支架

1. 荧光检测接口

顶部配备XY轴高精度手动位移台,用于搭载PL荧光光纤(兼容10mm或以下尺寸),满足原位荧光信号采集需求。

2. 吸收检测接口

样品台设有透明穿孔,标准配置适配8mm光纤接入,用于透射式吸收光谱采集;其他尺寸光纤接口可依据需求定制。