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桌面式高真空磁控溅射仪WD-MSI200S
介绍： 威德 WD-MSI200S 桌面式高真空磁控溅射仪集成2/3英寸磁控溅射靶（高度可调）、直流/射频电源选配及偏压样品台。数显真空计（进口规管）精准控压，质量流量控制器独立调节反应气体，支持金属/化合物薄膜高效制备，扩展性强，操作便捷。型号： WD-MSI200S -
桌面式磁控溅射仪WD-MSI200
介绍： 威德桌面式磁控溅射仪集成2/3英寸磁控溅射靶（高度可调）、直流/射频电源选配及偏压样品台。数显真空计（进口规管）精准控压，质量流量控制器独立调节反应气体，支持金属/化合物薄膜高效制备，扩展性强，操作便捷。型号： WD-MSI200 -
桌面式小型离子溅射仪 WD-ISC150
介绍： 威德桌面式小型离子溅射仪WD-ISC150是采用磁控直流溅射原理设计而成的离子溅射镀膜设备。具有最简单、可靠、经济的镀膜技术，对比于常规二极溅射具有效率高，溅射靶材种类多等优点。型号： WD-ISC150
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