• 产品

    磁控溅射产品系列

    双靶磁控溅射镀膜系统 三靶磁控溅射镀膜系统 四靶磁控溅射镀膜系统 双室磁控溅射镀膜系统 手套箱磁控溅射镀膜系统 桌面型磁控溅射镀膜系统

    蒸发镀膜产品系列

    桌面型热蒸发镀膜仪 多功能蒸发镀膜系统 手套箱集成蒸发镀膜系统 电子束蒸发镀膜系统

    闪蒸成膜仪

    常温闪蒸成膜仪 低温闪蒸成膜仪 原位荧光‑吸收闪蒸成膜系统

    钙钛矿制备产品系列

    薄膜制备 精密加热台 激光刻蚀机

    表面改性

    超声波清洗机 等离子波清洗机 紫外臭氧清洗机
    400-880-3713
  • 应用
    薄膜制备 等离子清洗 表面改性 钙钛矿 真空镀膜 其他
  • 服务
    常见问题 售后服务
  • 新闻
    公司新闻 市场活动 产品新闻
  • 关于
    关于威德 联系我们 加入我们
首页 > 产品 > 钙钛矿制备产品系列 > 激光刻蚀机

筛选

screen

类别

  • 磁控溅射产品系列
    双靶磁控溅射镀膜系统
    三靶磁控溅射镀膜系统
    四靶磁控溅射镀膜系统
    双室磁控溅射镀膜系统
    手套箱磁控溅射镀膜系统
    桌面型磁控溅射镀膜系统
  • 蒸发镀膜产品系列
    桌面型热蒸发镀膜仪
    多功能蒸发镀膜系统
    手套箱集成蒸发镀膜系统
    电子束蒸发镀膜系统
  • 闪蒸成膜仪
    常温闪蒸成膜仪
    低温闪蒸成膜仪
    原位荧光‑吸收闪蒸成膜系统
  • 钙钛矿制备产品系列
    薄膜制备
    匀胶机 自动刮涂仪 狭缝涂布仪
    精密加热台
    激光刻蚀机
  • 表面改性
    超声波清洗机
    等离子波清洗机
    紫外臭氧清洗机
  • 桌面式小型导电玻璃激光刻蚀机WD-LEM1010

    介绍: 采用固体激光器,激光波长1064nm,适合对导电玻璃、薄膜进行精细激光刻蚀;采用威德自主研发的控制软件、直接导入CAD 数据进行激光刻蚀,操作简单,方便快捷;采用独特除尘系统设计,能保证玻璃、薄膜与工作平面的清洁。
    型号: WD-LEM1010
    查看详情>
  • 400-880-3713
  • 在线咨询

产品

  • 磁控溅射产品系列
  • 蒸发镀膜产品系列
  • 闪蒸成膜仪
  • 钙钛矿制备产品系列
  • 表面改性

应用

  • 薄膜制备
  • 等离子清洗
  • 表面改性
  • 钙钛矿
  • 真空镀膜
  • 其他

服务

  • 常见问题
  • 售后服务

新闻

  • 公司新闻
  • 市场活动
  • 产品新闻

关于

  • 关于威德
  • 联系我们
  • 加入我们
网页地图 友情链接 联系我们

Copyright©2021 北京市海淀区

备案号:京ICP备2025106662号-1