• 双靶磁控溅射系统WD-MSI300

    介绍: 威德 WD‑MSI300 双靶磁控溅射镀膜设备主机电控一体化紧凑结构,便于操作维护;不锈钢精密真空室,极限真空优于6×10⁻⁵Pa。配500W直流+500W自动匹配射频电源,支持双靶共溅射/交替溅射,可制备金属、氧化物、介电质半导体等功能薄膜,适合科研实验、教学及产线前期工艺验证。
    型号: WD-MSI300