四靶磁控溅射镀膜系统

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四靶磁控溅射系统WD-MSI500

介绍： 威德 WD-MSI500 四靶磁控溅射系统是一套配备四只独立磁控溅射靶的多功能高真空镀膜装备，专为科研院所及先进制造领域设计。系统兼具“低温沉积”与“高速成膜”两大核心优势。该技术路线所制备的薄膜具有厚度可控性好、重复性高、与基片附着力强、膜层纯度高等突出特点，广泛应用于金属薄膜、氧化物薄膜、绝缘膜及半导体薄膜的制备与研究。

型号： WD-MSI500

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