威德仪器 | 桌面式高真空磁控溅射仪WD-MSI200S-交付案例-复旦大学
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大型设备机时饱和，学生基础工艺摸索占用贵重大型设备资源，课题迭代效率低；
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大型溅射设备体积庞大，需独立机房，实验室新增设备场地受限；
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多个课题组交叉使用，腔体清洁费时费力，交叉污染防不住；
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大型溅射设备抽真空时间长，设备流程复杂、参数设置繁琐，培训周期长，上手慢。
经过详细调研参数对标、样品打样测试、现场实地考察，课题组最终选定威德 WD-MSI200S 桌面式高真空磁控溅射仪。设备小型集成、直接放试验台即可使用；配7寸彩色触摸屏，一键全自动操作；样品台加热旋转，分子泵、质量流量计等核心功能齐全，性能强悍；新手简单培训即可上手。完美匹配课题组日常小批量样品快速研发与专机专用双重需求。
依托威德成熟桌面镀膜设备平台，WD-MSI200S 整机高度集成真空、溅射、气路、电控系统，无需拆分多台机组，直接放置标准实验台面即可使用，核心配置如下：
1. 真空系统
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300L/s分子泵 + 4L/s双级旋片机械泵，极限真空可达5×10⁻⁵Pa；
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真空监测：复合真空计+电阻规+电离规，触摸屏实时可视化压力数值，全量程监测，压力异常自动声光报警；
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溅射腔体：304不锈钢一体化腔室，内壁电解抛光无杂质析出；前开式密封舱门，取放样品便捷，兼容≤4英寸刚性、柔性基片。
2. 直流溅射沉积单元
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溅射靶：2/3英寸高度可调磁控阴极靶；
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电源系统：300W射频/直流溅射电源可选；
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加热样品台：标配旋转，最高加热400℃；提升膜层致密度、均匀性,溅射过程与退火阶段可有效降低导电薄膜方阻；
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精密气路：双通道MFC质量流量控制器，高纯氩气精准控流，亦可通入反应气体实现反应溅射。
3. 全自动智能控制系统
4. 整机基础参数
威德组专业现场服务工程师赴复旦大学实验室完成全链条落地服务，严格遵循原厂标准化交付流程：
现场开箱清点全套设备：设备主机、真空泵、原厂工具包、出厂检测报告、纸质 + 电子版操作手册；逐项核验腔体、电气、配件无磕碰、破损，双方签署到货验收单。
现场安装、气密调试与整机联动
●连续全自动空载流程测试，无真空泄漏、无电源报警、阀门动作顺畅。
现场工艺打样验证
分层实操培训 + 上机考核
培训分为理论授课与一对一实操两大板块，详细培训磁控溅射原理、真空系统维护、简易故障排查、靶材更换、真空泵保养规范等；
全部参训人员完成上机实操考核，均可独立开展实验。
资料移交与正式验收
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分流大型设备压力，科研效率显著提升
本台桌面磁控溅射仪专供研究生日常工艺摸索、小批量器件打样，原有大型溅射系统仅用于大批量正式样品制备，大型设备占用时长降低 60%，学生实验排期周期大幅缩短，加速课题论文产出。 -
小型化低门槛，科研教学两用
整机占地仅标准台面大小，无需专用真空机房；触摸屏全自动操作，新手短时间即可独立完成镀膜实验，同时可支撑本科生薄膜材料课程教学，兼顾科研创新与人才培养。 -
国产高性价比，运维成本更低
相较进口同规格桌面溅射设备，WD-MS200S 采购成本、售后运维成本低；整机耗材少，真空泵油、氟胶密封圈更换周期长，日常维护简单，适配高校实验室预算管控需求。 -
全周期 7×24 小时专属售后保障
威德全国统一 400 服务热线全天候技术支持，华东区域工程师 48 小时上门服务；质保期内季度电话回访，每年 1 次免费整机上门巡检，同步免费提供溅射工艺技术咨询，长期稳定供应各类靶材、真空密封配件、电源备件。
✅ 直流电源版（宁波材料所交付机型）适用：Au、Ag、Cu、Al等金属、导电合金薄膜，主打金属电极、导电线路制备；
✅ 射频电源版（复旦大学同款）适用：ITO、AZO、NiO、TiO₂等绝缘氧化物、陶瓷薄膜，用于透明导电层研发；
两款设备真空腔体、控制系统、整机尺寸完全通用，仅溅射电源模块差异化定制，高校、科研院所可根据研究方向灵活选配，同时支持分子泵、样品台、多路反应气路后期升级拓展。
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