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双室磁控溅射镀膜系统WD-MSI600-Dual
介绍:
威德WD‑MSI600‑Dual为高端薄膜研发用高真空双室磁控溅射镀膜系统采用沉积腔与进样室双腔独立结构,支持手动/自动抽真空,具备压差联锁保护。集成多靶溅射、高温样品台、负偏压清洗及PLC全自动控制可制备氧化物、金属、氮化物等各类薄膜,适用于高校科研、半导体、光学镀膜、新能源材料的工艺研发及小批量生产。
型号:
WD-MSI600-Dual
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