• 三靶磁控溅射系统WD-MSI400

    介绍: 威德 WD-MSI400 三靶磁控溅射系统专为科研院所及先进制造领域设计的多功能高真空镀膜装备,配备三只独立磁控溅射靶。系统基于磁控溅射技术,所制备的薄膜具有厚度可控性好、重复性高、与基片附着力强、膜层纯度高等突出特点,广泛应用于金属薄膜、氧化物薄膜、绝缘膜及半导体薄膜的制备与研究。
    型号: WD-MSI400